플라즈마 원자층 증착(PEALD) plasma-enhanced atomic layer deposition
방법 · 공정·제작
플라즈마로 반응성을 높여 저온에서도 원자층 단위 박막을 증착하는 기술이다.
연도별 연구단 논문
국가 R&D 과제 동향 (NTIS, 억 원)
2015–2024 과제 레코드 40건 · 10년 46억 · 2015–19 대비 2020–24 소규모 · 대학 수행 60.6% · 서울대(본교) 0.43%. 매칭: 영문 키워드 'plasma enhanced atomic layer deposition', 국문 '플라즈마원자층증착', 'PEALD'. 기관운영비·인력양성·출연연 주요사업비 등 과제 아닌 레코드는 뺐다.
매칭 과제의 NTIS 표준분류(1순위, 연구비 비중): 전기/전자 > 반도체장비 37% · 기계 > 에너지/환경기계시스템 12% · 전기/전자 > 반도체소자 및 시스템 10% · 재료 > 열/표면처리 9%
최근 주요 과제 (2022–2024, 연차 정부연구비 순)
| 연도 | 과제 | 수행기관 | 부처 | 억 |
|---|---|---|---|---|
| 2023 | 수직형 배치 ALD 증착 장비에 적용 가능한 고밀도 플라즈마 소스 개발 | (주)씨엔원 | 중소벤처기업부 | 2.4 |
| 2023 | PE-ALD 공정용 고주파전원공급장치(RF Generator) 및 임피던스정합장치(RF Matcher) | (주)에이에스엔지니어링 | 산업통상자원부 | 2.3 |
| 2022 | 공정 플라즈마 이온 에너지 제어 기술 개발 통한 차세대 원자층 복합 공정에의 활용과 전고체 연료전지 및 배터리 적용에 관한 연구 | 서울과학기술대학 | 과학기술정보통신부 | 2.0 |
| 2023 | 고성능 Spatial PEALD 기반 전도성 및 가스 배리어 일체형 필름 개발 | (주)대기하이텍 | 중소벤처기업부 | 1.9 |
| 2022 | 고성능 대면적 전자소자 제작을 위한 2차원 소재 선택적 복합 표면 활성화 기술과 플라즈마 원자층 박막 증착 공정 기술 개발 | 서울과학기술대학 | 산업통상자원부 | 1.0 |
| 2022 | 차세대 플라즈마 원자층증착을 이용한 고품질 자기정렬다중패터닝 spacer 원천 기술 개발 | 한양대학 | 산업통상자원부 | 1.0 |
| 2022 | 차세대 기능성 나노 성막 생산제조 시스템 개발 | 조선대학 | 과학기술정보통신부 | 1.0 |
| 2024 | 고성능 Spatial PEALD 기반 전도성 및 가스 배리어 일체형 필름 기술의 사업화 추진을 위한 IP고도화 및 상용화 | 충북대학 | 과학기술정보통신부 | 0.6 |
교수
| 교수 | 학과 | 논문 | 2022년 이후 |
|---|---|---|---|
| 차석원 | 기계공학부 | 10 | 2 |
연결되는 NTIS 분류
신재생에너지 10
논문 (최신순)
인접 그래프
노드 hover = 이웃 강조 · 1회 클릭 = 고정 · 고정된 노드 다시 클릭 = 페이지 이동
이 문서와 연결된 페이지
교수 1
논문 10
PEALD YSZ-based bilayer electrolyte for thin film-solid oxide fuel cel · Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Nanoscale Yttria-Stabilized · Effect of plasma-enhanced atomic layer deposited YSZ inter-layer on ca · Effects of Nanoscale PEALD YSZ Interlayer for AAO Based Thin Film Soli · Enhanced performance of nanostructured thin film anode through Pt plas · Properties of nanostructured undoped ZrO2 thin film electrolytes by pl · Optimization of Y2O3 dopant concentration of yttria stabilized zirconi · Corrosion behavior of Ta and TiN double-layer-coated SUS316L for PEMFC · Effect of anode morphology on the performance of thin film solid oxide · Operating Cost Savings in the Atomic Layer Deposition Process of Ultra