Two-dimensional hard masks push three-dimensional patterning

저자

Jihoon Chang, 이철호 (Chul‐Ho Lee)

연구주제

Advancements in Photolithography Techniques · Nanofabrication and Lithography Techniques · 2D Materials and Applications

NTIS 과학기술표준분류

지원 과제·AI 키워드로 잡을 근거가 없어 분류하지 않았다.

AI 연구 키워드·방법

high aspect ratio etching three dimensional patterning two dimensional hard mask

키워드 (OpenAlex)

hard mask two-dimensional materials three-dimensional patterning plasma etching high aspect ratio etching nanopatterning semiconductor processing

초록

이 논문을 지원한 국가R&D 과제 (NTIS 성과)

NTIS 성과DB(2020–24)에서 DOI 매칭 없음