Gate stack engineering of two-dimensional transistors

저자

Yeon Ho Kim, Donghun Lee, Woong Huh, Jaeho Lee, Donghyun Lee, Gunuk Wang, Jaehyun Park, Daewon Ha, 이철호 (Chul‐Ho Lee)

연구주제

2D Materials and Applications · Semiconductor materials and devices

NTIS 과학기술표준분류

가장 가까운 분류(전기/전자 > 반도체소자 및 시스템 > Si 소자)가 에너지·환경·원자력 확장 범위 밖이다.

AI 연구 키워드·방법

전계효과 트랜지스터(FET) 게이트 절연막 gate stack 2차원 반도체

키워드 (OpenAlex)

gate stack engineering two-dimensional transistors two-dimensional materials gate dielectric device scaling non-volatile memory logic-in-memory low-power transistors

초록

이 논문을 지원한 국가R&D 과제 (NTIS 성과)

NTIS 성과DB(2020–24)에서 DOI 매칭 없음