원자층 증착(ALD) atomic layer deposition
방법 · 공정·제작
전구체를 번갈아 공급하는 자기제한 표면반응으로 원자층 단위의 균일한 박막을 쌓는 증착 기술이다.
하위 키워드
이 키워드를 포함하는 더 구체적인 키워드. 위 논문 수·교수·연도별 그래프는 이들을 합친 값이다.
연도별 연구단 논문
국가 R&D 과제 동향 (NTIS, 억 원)
2015–2024 과제 레코드 871건 · 10년 2,283억 · 2015–19 대비 2020–24 +131% · 대학 수행 36.0% · 서울대(본교) 3.34%. 매칭: 영문 키워드 'atomic layer deposition', 국문 '원자층증착', 'ALD'. 기관운영비·인력양성·출연연 주요사업비 등 과제 아닌 레코드는 뺐다.
매칭 과제의 NTIS 표준분류(1순위, 연구비 비중): 전기/전자 > 반도체장비 26% · 전기/전자 > 디스플레이 16% · 에너지/자원 > 신재생에너지 9% · 전기/전자 > 반도체소자 및 시스템 9%
최근 주요 과제 (2022–2024, 연차 정부연구비 순)
| 연도 | 과제 | 수행기관 | 부처 | 억 |
|---|---|---|---|---|
| 2022 | 금속 산화막 채널을 이용한 차세대 트랜지스터 제조용 고성능 ALD 장비 개발 | 주성엔지니어링(주) | 산업통상자원부 | 33.5 |
| 2024 | 대면적 유리 기판에서 저온 박막증착용 무기발광 소재 및 장비 기술개발 | 주성엔지니어링(주) | 산업통상자원부 | 18.0 |
| 2024 | Logic 1nm이하 Memory xnm급의 차세대 유전체 및 전극용 공정 장비 개발 | 주성엔지니어링(주) | 산업통상자원부 | 16.1 |
| 2022 | 8세대 IGZO계 산화물 원자층 증착 장비 및 고이동도 박막트랜지스터 기술 개발 | 에이피시스템(주) | 산업통상자원부 | 14.0 |
| 2023 | 이상 감지 및 성능 향상을 위한 지능형 원자층 증착 공정장비 기술개발 | (주)서플러스글로벌 | 산업통상자원부 | 13.8 |
| 2024 | High vacuum conductance를 갖는 batch type ALD system 개발 | (주)유진테크 | 산업통상자원부 | 13.2 |
| 2022 | MTJ(Magnet Tunnel Junction) Capping Layer 제조용 Plasma Source를 이용한 저온공정 Silicon Nitride 증착 장비 개발 | (주)씨엔원 | 산업통상자원부 | 13.0 |
| 2024 | 차세대 패터닝용 금속화합물계 소재 증착을 위한 플라즈마 ALD 장비 개발 | (주)아이작리서치 | 산업통상자원부 | 12.6 |
교수
| 교수 | 학과 | 논문 | 2022년 이후 |
|---|---|---|---|
| 차석원 | 기계공학부 | 21 | 3 |
| 이윤석 | 기계공학부 | 4 | 0 |
| 김진영 | 재료공학부 | 2 | 0 |
| 강진수 | 에너지자원공학과 | 1 | 0 |
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신재생에너지 23
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